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　　半導(dǎo)體超純水設(shè)備水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)半導(dǎo)體超純水設(shè)備是用于清洗半導(dǎo)體生產(chǎn)部件的設(shè)備，需要符合特定的水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。以下是具體介紹。

　　水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)：

　　出水水質(zhì)應(yīng)符合美國ASTM純水質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)、中國電子工業(yè)電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18mΩ）。厘米，15米Ω。厘米，10兆歐。厘米，2兆歐。厘米，0.5兆歐。中國電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、半導(dǎo)體工業(yè)純水指標(biāo)、集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

　　半導(dǎo)體超純水設(shè)備制備工藝：

　　1.預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混床→精混床→純水水箱→純水泵→紫外線******器→拋光混床→精密過濾器→水點（≥18mΩ）。Cm）

　　2.預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線******器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→水點（≥18mΩ）。Cm）

　　3.預(yù)處理→一級反滲透→加藥機(jī)（pH調(diào)節(jié)）→中間水箱→二級反滲透（正電荷反滲透膜）→純水水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線******器→0.2或0.5μm精密過濾器→水點（≥17mΩ）。Cm）

　　4.預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水水箱→純水泵→紫外線******器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥15mΩ）。Cm）

　　5.預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混床→精混床→紫外線******器→精密過濾器→水點（≥15mΩ。Cm）

　　半導(dǎo)體超純水設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域：

　　電解電容器生產(chǎn)用鋁箔及工作部件的清洗。

　　電子管、顯像管、陰極射線管生產(chǎn)配料用純水。

　　純水用于熒光屏生產(chǎn)、玻璃外殼清洗、沉淀、潤濕、膜清洗和黑白顯像管頸部清洗。

　　液晶顯示器的屏幕應(yīng)使用純水清洗，并與純水混合。純水主要用于晶體管生產(chǎn)中硅片的清洗。

　　集成電路生產(chǎn)中的高純水清洗硅片。

　　半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水。

　　半導(dǎo)體材料、晶體材料的生產(chǎn)、加工、清洗。品質(zhì)較高的顯像管，熒光粉生產(chǎn)。

　　汽車、家用電器表面拋光。